Buffered oxide etchant (BOE)
6:1
- รหัสสินค้า: 154408
นามแฝง:
Mixture of buffer solutions such as ammonium fluoride (12125-01-8) and hydrofluoric acid (7664-39-3)
| น้ำหนักโมเลกุล: | Molecular Formula: | ||
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | ||
| Melting Point: | Boiling Point: | ||
| Density: | Storage Condition: | Room temperature |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้ในกระบวนการผลิตชิปและอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในการกัด (etch) ฟิล์มซิลิคอนไดออกไซด์ (SiO₂) บนซับสเตรตซิลิคอนอย่างแม่นยำ นิยมใช้ในขั้นตอนการผลิตทรานซิสเตอร์และวงจรรวม เนื่องจากให้อัตราการกัดที่สม่ำเสมอและควบคุมได้ดี ช่วยป้องกันการกัดลึกลงไปในชั้นซิลิคอนใต้ชั้นออกไซด์ ทำให้เหมาะกับงานไมโครฟลูอิดิกส์และอุปกรณ์ MEMS ที่ต้องการความละเอียดสูง
ขนาด / Availability / ราคา:
| ปริมาณ | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 250ml | 10-20 days | $127.16 |
+
-
|
| 500ml | 10-20 days | $250.34 |
+
-
|
| 1L | 10-20 days | $415.24 |
+
-
|
Buffered oxide etchant (BOE)
ใช้ในกระบวนการผลิตชิปและอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในการกัด (etch) ฟิล์มซิลิคอนไดออกไซด์ (SiO₂) บนซับสเตรตซิลิคอนอย่างแม่นยำ นิยมใช้ในขั้นตอนการผลิตทรานซิสเตอร์และวงจรรวม เนื่องจากให้อัตราการกัดที่สม่ำเสมอและควบคุมได้ดี ช่วยป้องกันการกัดลึกลงไปในชั้นซิลิคอนใต้ชั้นออกไซด์ ทำให้เหมาะกับงานไมโครฟลูอิดิกส์และอุปกรณ์ MEMS ที่ต้องการความละเอียดสูง
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
Purchase History for
Loading purchase history...
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
$0.00
$0.00
รวมทั้งสิ้น :