(3aS,3a'S,8aR,8a'R)-2,2'-(1,3-Bis(4-(adamantan-1-yl)phenyl)propane-2,2-diyl)bis(3a,8a-dihydro-8H-indeno[1,2-d]oxazole)
97%
- รหัสสินค้า: 233386
CAS:
2757085-47-3
| น้ำหนักโมเลกุล: | 779.06 g./mol | Molecular Formula: | C₅₅H₅₈N₂O₂ |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | ||
| Melting Point: | Boiling Point: | ||
| Density: | 1.40±0.1 g/cm3(Predicted) | Storage Condition: | Room temperature, seal, inert gas |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการสร้างพอลิเมอร์ที่มีความทนทานสูง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์สำหรับผลิตชั้นฟิล์มหุ้มฉนวนในชิปและวงจรอินทิเกรต เนื่องจากมีความเสถียรต่อความร้อนและทนต่อการกัดกร่อนจากสารเคมีได้ดี ช่วยเพิ่มอายุการใช้งานของอุปกรณ์ รวมถึงใช้ในระบบโฟโตรีซิสต์สำหรับลิเทอรีโซลเวอร์ในกระบวนการผลิตไมโครชิป เนื่องจากมีความไวต่อรังสีอัลตราไวโอเลตและให้ภาพที่คมชัดในระดับนาโนเมตร
ขนาด / Availability / ราคา:
| ปริมาณ | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 0.100 | 10-20 days | $909.77 |
+
-
|
(3aS,3a'S,8aR,8a'R)-2,2'-(1,3-Bis(4-(adamantan-1-yl)phenyl)propane-2,2-diyl)bis(3a,8a-dihydro-8H-indeno[1,2-d]oxazole)
ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการสร้างพอลิเมอร์ที่มีความทนทานสูง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์สำหรับผลิตชั้นฟิล์มหุ้มฉนวนในชิปและวงจรอินทิเกรต เนื่องจากมีความเสถียรต่อความร้อนและทนต่อการกัดกร่อนจากสารเคมีได้ดี ช่วยเพิ่มอายุการใช้งานของอุปกรณ์ รวมถึงใช้ในระบบโฟโตรีซิสต์สำหรับลิเทอรีโซลเวอร์ในกระบวนการผลิตไมโครชิป เนื่องจากมีความไวต่อรังสีอัลตราไวโอเลตและให้ภาพที่คมชัดในระดับนาโนเมตร
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
Purchase History for
Loading purchase history...
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
$0.00
$0.00
รวมทั้งสิ้น :