Tris(dimethylamino)methylsilane
- รหัสสินค้า: 238523
CAS:
3768-57-8
| น้ำหนักโมเลกุล: | 175.35 g./mol | Molecular Formula: | C₇H₂₁N₃Si |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | ||
| Melting Point: | -11 °C | Boiling Point: | 55 °C |
| Density: | 0.85 g/cm3 | Storage Condition: | 2-8°C |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เป็นสารตั้งต้นสำหรับการเคลือบฟิล์มซิลิคอนคาร์ไบด์หรือซิลิคอนไนไตรด์ด้วยกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) เนื่องจากมีความสามารถในการสลายตัวที่อุณหภูมิปานกลางและให้ผลผลิตฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูง นิยมใช้ในขั้นตอนการผลิตชิปอิเล็กทรอนิกส์และอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ที่ต้องการชั้นฉนวนหรือชั้นกันการแพร่ของโลหะ นอกจากนี้ยังใช้เป็นตัวทำปฏิกิริยาในสังเคราะห์สารประกอบออร์แกนโอซิลิคอนที่ซับซ้อนในห้องปฏิบัติการวิจัย
ขนาด / Availability / ราคา:
| ปริมาณ | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 10g | 10-20 days | ฿45,980.00 |
+
-
|
Tris(dimethylamino)methylsilane
ใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เป็นสารตั้งต้นสำหรับการเคลือบฟิล์มซิลิคอนคาร์ไบด์หรือซิลิคอนไนไตรด์ด้วยกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) เนื่องจากมีความสามารถในการสลายตัวที่อุณหภูมิปานกลางและให้ผลผลิตฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูง นิยมใช้ในขั้นตอนการผลิตชิปอิเล็กทรอนิกส์และอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ที่ต้องการชั้นฉนวนหรือชั้นกันการแพร่ของโลหะ นอกจากนี้ยังใช้เป็นตัวทำปฏิกิริยาในสังเคราะห์สารประกอบออร์แกนโอซิลิคอนที่ซับซ้อนในห้องปฏิบัติการวิจัย
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
Purchase History for
Loading purchase history...
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
฿0.00
฿0.00
รวมทั้งสิ้น :