Trimethyl(methylcyclopentadienyl)platinum(IV)
98%
- รหัสสินค้า: 242196
CAS:
94442-22-5
| น้ำหนักโมเลกุล: | 319.3 g./mol | Molecular Formula: | C₅H₄CH₃Pt(CH₃)₃ |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | MFCD00079665 | |
| Melting Point: | 30-31 °C (lit.) | Boiling Point: | 23°C 0.053 mmHg |
| Density: | Storage Condition: | 2-8°C |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบแพลตินัมสำหรับการเคลือบผิวด้วยกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) ซึ่งนิยมใช้ในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์เพื่อสร้างชั้นฟิล์มบางของโลหะแพลตินัมบนชิ้นส่วนเซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากสารนี้มีความระเหยง่ายและเสถียรภาพในสภาวะการใช้งาน ทำให้ควบคุมการเคลือบได้อย่างแม่นยำและให้ฟิล์มที่มีคุณภาพสูง เหมาะสำหรับการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขนาดเล็กที่ต้องการความละเอียดสูง
ขนาด / Availability / ราคา:
| ปริมาณ | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 0.100 | 10-20 days | ฿5,850.00 |
+
-
|
| 0.500 | 10-20 days | ฿23,390.00 |
+
-
|
Trimethyl(methylcyclopentadienyl)platinum(IV)
ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบแพลตินัมสำหรับการเคลือบผิวด้วยกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) ซึ่งนิยมใช้ในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์เพื่อสร้างชั้นฟิล์มบางของโลหะแพลตินัมบนชิ้นส่วนเซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากสารนี้มีความระเหยง่ายและเสถียรภาพในสภาวะการใช้งาน ทำให้ควบคุมการเคลือบได้อย่างแม่นยำและให้ฟิล์มที่มีคุณภาพสูง เหมาะสำหรับการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขนาดเล็กที่ต้องการความละเอียดสูง
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
Purchase History for
Loading purchase history...
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
฿0.00
฿0.00
รวมทั้งสิ้น :