(Trimethyl)cyclopentadienylplatinum(IV)
98%
- รหัสสินค้า: 243222
CAS:
1271-07-4
| น้ำหนักโมเลกุล: | 305.28 g./mol | Molecular Formula: | C₈H₁₄Pt |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | MFCD07369041 | |
| Melting Point: | 104-106 °C | Boiling Point: | |
| Density: | Storage Condition: | 2-8°C, Sealed, Dry, Light-proof, Inert Gas |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้ในกระบวนการเคลือบบางด้วยเทคนิคการสลายตัวของสารประกอบอินทรีย์ของโลหะ (MOCVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางของพลาตินัมบนพื้นผิวต่าง ๆ ซึ่งฟิล์มบางนี้มีความสำคัญในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ โดยเฉพาะในการผลิตตัวเก็บประจุ ขั้วไฟฟ้าสำหรับอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ และอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์อื่น ๆ ที่ต้องการความบริสุทธิ์สูงและการควบคุมความหนาของฟิล์มอย่างแม่นยำ สารนี้มีข้อได้เปรียบในการสลายตัวที่อุณหภูมิปานกลาง ทำให้เหมาะกับการใช้งานในกระบวนการผลิตที่ต้องการความละเอียดสูง
ขนาด / Availability / ราคา:
| ปริมาณ | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 0.100 | 10-20 days | ฿4,270.00 |
+
-
|
(Trimethyl)cyclopentadienylplatinum(IV)
ใช้ในกระบวนการเคลือบบางด้วยเทคนิคการสลายตัวของสารประกอบอินทรีย์ของโลหะ (MOCVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางของพลาตินัมบนพื้นผิวต่าง ๆ ซึ่งฟิล์มบางนี้มีความสำคัญในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ โดยเฉพาะในการผลิตตัวเก็บประจุ ขั้วไฟฟ้าสำหรับอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ และอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์อื่น ๆ ที่ต้องการความบริสุทธิ์สูงและการควบคุมความหนาของฟิล์มอย่างแม่นยำ สารนี้มีข้อได้เปรียบในการสลายตัวที่อุณหภูมิปานกลาง ทำให้เหมาะกับการใช้งานในกระบวนการผลิตที่ต้องการความละเอียดสูง
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
Purchase History for
Loading purchase history...
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
฿0.00
฿0.00
รวมทั้งสิ้น :