Tris(2,2,6,6-Tetramethyl-3,5-Heptanedionato)Ruthenium
98%
- รหัสสินค้า: 243626
CAS:
38625-54-6
| น้ำหนักโมเลกุล: | 650.87 g./mol | Molecular Formula: | C₃₃H₅₇O₆Ru |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | MFCD00269841 | |
| Melting Point: | Boiling Point: | ||
| Density: | Storage Condition: | Room temperature |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบด้วยเทคนิคการสลายตัวของสารประกอบทางเคมี (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางของรูเทเนียมหรือออกไซด์ของรูเทเนียมบนพื้นผิวต่าง ๆ ฟิล์มที่ได้มีคุณสมบัติการนำไฟฟ้าดีมาก และมีความเสถียรต่อการกัดกร่อน จึงเหมาะสำหรับใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ เช่น ตัวเก็บประจุในชิปหน่วยความจำ (DRAM) และอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง นอกจากนี้ยังใช้ในงานวิจัยด้านวัสดุนาโนและตัวเร่งปฏิกิริยาที่ต้องการพื้นผิวโลหะรูเทเนียมบริสุทธิ์สูง
ขนาด / Availability / ราคา:
| ปริมาณ | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 0.250 | 10-20 days | ฿7,610.00 |
+
-
|
Tris(2,2,6,6-Tetramethyl-3,5-Heptanedionato)Ruthenium
ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบด้วยเทคนิคการสลายตัวของสารประกอบทางเคมี (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางของรูเทเนียมหรือออกไซด์ของรูเทเนียมบนพื้นผิวต่าง ๆ ฟิล์มที่ได้มีคุณสมบัติการนำไฟฟ้าดีมาก และมีความเสถียรต่อการกัดกร่อน จึงเหมาะสำหรับใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ เช่น ตัวเก็บประจุในชิปหน่วยความจำ (DRAM) และอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง นอกจากนี้ยังใช้ในงานวิจัยด้านวัสดุนาโนและตัวเร่งปฏิกิริยาที่ต้องการพื้นผิวโลหะรูเทเนียมบริสุทธิ์สูง
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
Purchase History for
Loading purchase history...
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
฿0.00
฿0.00
รวมทั้งสิ้น :