Hafnium(IV) ethoxide
99.9% (metals basis)
- รหัสสินค้า: 194522
CAS:
13428-80-3
| น้ำหนักโมเลกุล: | 358.73 g./mol | Molecular Formula: | Hf(OC₂H₅)₄ |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | MFCD00070459 | |
| Melting Point: | 178-180ºC | Boiling Point: | 180-200ºC 13mm |
| Density: | Storage Condition: | Room temperature, seal, dry |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้ในกระบวนการผลิตวัสดุเซรามิกส์ที่มีจุดหลอมเหลวสูง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์สำหรับทำเป็นไดอิเล็กทริกในทรานซิสเตอร์ นิยมนำมาใช้ในการสังเคราะห์ฟิล์มบางด้วยวิธีโซล-เจล เพื่อสร้างชั้นป้องกันหรือชั้นนำไฟฟ้าในอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในบางกระบวนการเคมี และสามารถนำไปใช้ในงานเคลือบผิวเพื่อเพิ่มความทนทานต่อความร้อนและการกัดกร่อน
ขนาด / Availability / ราคา:
| ปริมาณ | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 1g | 10-20 days | ฿11,190.00 |
+
-
|
Hafnium(IV) ethoxide
ใช้ในกระบวนการผลิตวัสดุเซรามิกส์ที่มีจุดหลอมเหลวสูง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์สำหรับทำเป็นไดอิเล็กทริกในทรานซิสเตอร์ นิยมนำมาใช้ในการสังเคราะห์ฟิล์มบางด้วยวิธีโซล-เจล เพื่อสร้างชั้นป้องกันหรือชั้นนำไฟฟ้าในอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในบางกระบวนการเคมี และสามารถนำไปใช้ในงานเคลือบผิวเพื่อเพิ่มความทนทานต่อความร้อนและการกัดกร่อน
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
Purchase History for
Loading purchase history...
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
฿0.00
฿0.00
รวมทั้งสิ้น :