n-Hexylphosphonic acid
98%
- รหัสสินค้า: 194528
CAS:
4721-24-8
| น้ำหนักโมเลกุล: | 166.16 g./mol | Molecular Formula: | C₆H₁₃P(O)(OH)₂ |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | MFCD00013961 | |
| Melting Point: | 108-110°C | Boiling Point: | 299.7ºC at 760 mmHg |
| Density: | 1.132 | Storage Condition: | Room temperature, seal, dry |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้ในอุตสาหกรรมเคลือบผิวและวัสดุเซรามิกเพื่อปรับปรุงการยึดติดของชั้นฟิล์มกับพื้นผิวโลหะหรือเซรามิก เนื่องจากหมู่ฟอสโฟนิกสามารถจับกับพื้นผิวได้ดี ทำให้เกิดชั้นป้องกันที่ทนทานต่อการกัดกร่อน นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบออร์แกโนฟอสฟอรัสที่ใช้ในระบบอิเล็กทรอนิกส์อินทรีย์ เช่น ทรานซิสเตอร์ผลึกบาง (OTFTs) เพื่อปรับคุณสมบัติของอินเตอร์เฟซระหว่างอิเล็กโทรดกับชั้นนำไฟฟ้า ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการทำงานของอุปกรณ์
ขนาด / Availability / ราคา:
| ปริมาณ | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 1g | 10-20 days | ฿300.00 |
+
-
|
| 5g | 10-20 days | ฿450.00 |
+
-
|
| 100g | 10-20 days | ฿4,590.00 |
+
-
|
| 500g | 10-20 days | ฿22,000.00 |
+
-
|
| 25g | 10-20 days | ฿1,530.00 |
+
-
|
n-Hexylphosphonic acid
ใช้ในอุตสาหกรรมเคลือบผิวและวัสดุเซรามิกเพื่อปรับปรุงการยึดติดของชั้นฟิล์มกับพื้นผิวโลหะหรือเซรามิก เนื่องจากหมู่ฟอสโฟนิกสามารถจับกับพื้นผิวได้ดี ทำให้เกิดชั้นป้องกันที่ทนทานต่อการกัดกร่อน นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบออร์แกโนฟอสฟอรัสที่ใช้ในระบบอิเล็กทรอนิกส์อินทรีย์ เช่น ทรานซิสเตอร์ผลึกบาง (OTFTs) เพื่อปรับคุณสมบัติของอินเตอร์เฟซระหว่างอิเล็กโทรดกับชั้นนำไฟฟ้า ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการทำงานของอุปกรณ์
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
Purchase History for
Loading purchase history...
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
฿0.00
฿0.00
รวมทั้งสิ้น :