Tetrakis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)hafnium(IV)
99.5% trace metals basis
- รหัสสินค้า: 240590
CAS:
63370-90-1
| น้ำหนักโมเลกุล: | 910.5 g./mol | Molecular Formula: | C₄₄H₇₆HfO₈ |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | MFCD01863471 | |
| Melting Point: | 315-320ºC | Boiling Point: | 180ºC 0,1mm |
| Density: | Storage Condition: | Room temperature, seal, dry |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบด้วยเทคนิคการสลายตัวของสารประกอบทางเคมีจากไอ (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางของออกไซด์แทนทาลัม ซึ่งมีคุณสมบัติเป็นฉนวนไฟฟ้าที่ดี นิยมใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขนาดเล็ก เช่น ทรานซิสเตอร์และหน่วยความจำแบบแฟลช ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพและความหนาแน่นของวงจรได้สูงขึ้น นอกจากนี้ยังเหมาะสำหรับการสังเคราะห์วัสดุเซรามิกส์ขั้นสูงที่ต้องการความบริสุทธิ์และควบคุมโครงสร้างในระดับนาโน
ขนาด / Availability / ราคา:
| ปริมาณ | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 250mg | 10-20 days | £95.41 |
+
-
|
Tetrakis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)hafnium(IV)
ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบด้วยเทคนิคการสลายตัวของสารประกอบทางเคมีจากไอ (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางของออกไซด์แทนทาลัม ซึ่งมีคุณสมบัติเป็นฉนวนไฟฟ้าที่ดี นิยมใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขนาดเล็ก เช่น ทรานซิสเตอร์และหน่วยความจำแบบแฟลช ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพและความหนาแน่นของวงจรได้สูงขึ้น นอกจากนี้ยังเหมาะสำหรับการสังเคราะห์วัสดุเซรามิกส์ขั้นสูงที่ต้องการความบริสุทธิ์และควบคุมโครงสร้างในระดับนาโน
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
Purchase History for
Loading purchase history...
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
£0.00
£0.00
รวมทั้งสิ้น :