Tetrakis(dimethylamino)zirconium
≥98%
- รหัสสินค้า: 242250
CAS:
19756-04-8
| น้ำหนักโมเลกุล: | 267.53 g./mol | Molecular Formula: | C₈H₂₄N₄Zr |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | ||
| Melting Point: | Boiling Point: | ||
| Density: | Storage Condition: | 2-8℃, drying, inert gas storage |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้ในกระบวนการเคลือบผิวด้วยเทคนิค ALD (Atomic Layer Deposition) เพื่อสร้างฟิล์มบางของซิเรเนียมออกไซด์ที่มีความบริสุทธิ์สูงและควบคุมความหนาได้อย่างแม่นยำ นิยมใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง เนื่องจากให้ฟิล์มที่มีคุณสมบัติเป็นฉนวนไฟฟ้าได้ดี และมีความเสถียรต่ออุณหภูมิสูง นอกจากนี้ยังใช้เป็นตัวตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบของธาตุซิเรเนียมสำหรับงานวิจัยด้านวัสดุศาสตร์
ขนาด / Availability / ราคา:
| ปริมาณ | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 250mg | 10-20 days | ฿1,800.00 |
+
-
|
| 1g | 10-20 days | ฿6,800.00 |
+
-
|
| 5g | 10-20 days | ฿22,910.00 |
+
-
|
Tetrakis(dimethylamino)zirconium
ใช้ในกระบวนการเคลือบผิวด้วยเทคนิค ALD (Atomic Layer Deposition) เพื่อสร้างฟิล์มบางของซิเรเนียมออกไซด์ที่มีความบริสุทธิ์สูงและควบคุมความหนาได้อย่างแม่นยำ นิยมใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง เนื่องจากให้ฟิล์มที่มีคุณสมบัติเป็นฉนวนไฟฟ้าได้ดี และมีความเสถียรต่ออุณหภูมิสูง นอกจากนี้ยังใช้เป็นตัวตั้งต้นในการสังเคราะห์สารประกอบของธาตุซิเรเนียมสำหรับงานวิจัยด้านวัสดุศาสตร์
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
Purchase History for
Loading purchase history...
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
฿0.00
฿0.00
รวมทั้งสิ้น :