3-(4,5-Dimethoxy-2-nitrophenyl)acrylic acid
98%
- รหัสสินค้า: 44326
CAS:
20567-38-8
| น้ำหนักโมเลกุล: | 253.2100 g./mol | Molecular Formula: | C₁₁H₁₁NO₆ |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | MFCD00017017 | |
| Melting Point: | Boiling Point: | ||
| Density: | Storage Condition: | room temperature |
รายละเอียดสินค้า:
สารนี้มักใช้ในการสังเคราะห์สารเคมีและวัสดุที่มีความไวต่อแสง โดยเฉพาะในกระบวนการโฟโตลิโทกราฟี (Photolithography) ซึ่งเป็นเทคนิคสำคัญในการผลิตวงจรอิเล็กทรอนิกส์และอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ นอกจากนี้ ยังมีการนำไปใช้ในการวิจัยและพัฒนาสารประกอบที่มีคุณสมบัติพิเศษทางแสง เช่น สารที่สามารถเปลี่ยนสีหรือโครงสร้างเมื่อได้รับแสง ซึ่งมีประโยชน์ในด้านการพัฒนาวัสดุอัจฉริยะและเซ็นเซอร์แสง
ขนาด / Availability / ราคา:
| ขนาด (g) | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 1.000 | 10-20 days | ฿324.00 |
+
-
|
3-(4,5-Dimethoxy-2-nitrophenyl)acrylic acid
สารนี้มักใช้ในการสังเคราะห์สารเคมีและวัสดุที่มีความไวต่อแสง โดยเฉพาะในกระบวนการโฟโตลิโทกราฟี (Photolithography) ซึ่งเป็นเทคนิคสำคัญในการผลิตวงจรอิเล็กทรอนิกส์และอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ นอกจากนี้ ยังมีการนำไปใช้ในการวิจัยและพัฒนาสารประกอบที่มีคุณสมบัติพิเศษทางแสง เช่น สารที่สามารถเปลี่ยนสีหรือโครงสร้างเมื่อได้รับแสง ซึ่งมีประโยชน์ในด้านการพัฒนาวัสดุอัจฉริยะและเซ็นเซอร์แสง
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
฿0.00
฿0.00
รวมทั้งสิ้น :