Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)bismuth(III)
99.9%
- รหัสสินค้า: 68358
CAS:
142617-53-6
| น้ำหนักโมเลกุล: | 758.79 g./mol | Molecular Formula: | C₃₃H₅₇BiO₆ |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | MFCD00064763 | |
| Melting Point: | 114-116 °C | Boiling Point: | |
| Density: | Storage Condition: | room temperature, dry, inert gas |
รายละเอียดสินค้า:
สารนี้ถูกนำไปใช้ในกระบวนการสังเคราะห์วัสดุประเภทฟิล์มบางและวัสดุนาโน โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และเซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากคุณสมบัติทางเคมีที่ช่วยให้เกิดการสะสมชั้นบางได้อย่างมีประสิทธิภาพ นอกจากนี้ยังถูกใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในกระบวนการสังเคราะห์สารเคมีบางชนิด ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพและความเร็วของปฏิกิริยา ในด้านการวิจัยวัสดุศาสตร์ สารนี้ยังถูกศึกษาสำหรับการพัฒนาวัสดุที่มีคุณสมบัติพิเศษ เช่น การนำไฟฟ้าและการเปล่งแสง เพื่อนำไปประยุกต์ใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง
ขนาด / Availability / ราคา:
| ขนาด (g) | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 0.250 | 10-20 days | ฿4,482.00 |
+
-
|
Tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)bismuth(III)
สารนี้ถูกนำไปใช้ในกระบวนการสังเคราะห์วัสดุประเภทฟิล์มบางและวัสดุนาโน โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และเซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากคุณสมบัติทางเคมีที่ช่วยให้เกิดการสะสมชั้นบางได้อย่างมีประสิทธิภาพ นอกจากนี้ยังถูกใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในกระบวนการสังเคราะห์สารเคมีบางชนิด ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพและความเร็วของปฏิกิริยา ในด้านการวิจัยวัสดุศาสตร์ สารนี้ยังถูกศึกษาสำหรับการพัฒนาวัสดุที่มีคุณสมบัติพิเศษ เช่น การนำไฟฟ้าและการเปล่งแสง เพื่อนำไปประยุกต์ใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
฿0.00
฿0.00
รวมทั้งสิ้น :