Tetrakis(diethylamido)titanium(IV)
99.999% trace metals basis
- รหัสสินค้า: 68473
CAS:
4419-47-0
| น้ำหนักโมเลกุล: | 336.38 g./mol | Molecular Formula: | C₁₆H₄N₄Ti |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | MFCD00015648 | |
| Melting Point: | 4 °C | Boiling Point: | 112 °C0.1 mm Hg(lit.) |
| Density: | 0.931 g/mL at 25 °C(lit.) | Storage Condition: | room temperature |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบสารเคมีด้วยไอระเหย (Chemical Vapor Deposition - CVD) เพื่อสร้างชั้นบางของไททาเนียมไนไตรด์ (TiN) และไททาเนียมออกไซด์ (TiO₂) ซึ่งมีคุณสมบัติแข็งแกร่งและทนทานต่อการสึกหรอ เหมาะสำหรับการเคลือบชิ้นส่วนเครื่องมือกล อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ และวัสดุทนความร้อน นอกจากนี้ยังใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เพื่อผลิตฟิล์มบางสำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง เช่น ทรานซิสเตอร์และเซ็นเซอร์
ขนาด / Availability / ราคา:
| ขนาด (g) | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 5.000 | 10-20 days | ฿7,074.00 |
+
-
|
| 10.000 | 10-20 days | ฿9,900.00 |
+
-
|
| 25.000 | 10-20 days | ฿22,500.00 |
+
-
|
Tetrakis(diethylamido)titanium(IV)
ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบสารเคมีด้วยไอระเหย (Chemical Vapor Deposition - CVD) เพื่อสร้างชั้นบางของไททาเนียมไนไตรด์ (TiN) และไททาเนียมออกไซด์ (TiO₂) ซึ่งมีคุณสมบัติแข็งแกร่งและทนทานต่อการสึกหรอ เหมาะสำหรับการเคลือบชิ้นส่วนเครื่องมือกล อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ และวัสดุทนความร้อน นอกจากนี้ยังใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เพื่อผลิตฟิล์มบางสำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง เช่น ทรานซิสเตอร์และเซ็นเซอร์
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
฿0.00
฿0.00
รวมทั้งสิ้น :