Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(IV)
≥99.99% trace metals basis
- รหัสสินค้า: 91292
CAS:
175923-04-3
| น้ำหนักโมเลกุล: | 323.63 g./mol | Molecular Formula: | C₁₂H₃₂N₄Zr |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | MFCD03427131 | |
| Melting Point: | Boiling Point: | 81 °C at 0.1 mmHg (lit.) | |
| Density: | 1.049 g/mL at 25 °C (lit.) | Storage Condition: | room temperature |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้เป็นสารตั้งต้นในการผลิตฟิล์มบางของเซอร์โคเนียมออกไซด์ (ZrO₂) ผ่านกระบวนการ Chemical Vapor Deposition (CVD) และ Atomic Layer Deposition (ALD) ซึ่งฟิล์มเหล่านี้มีความสำคัญในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์สำหรับการสร้างชั้นฉนวนและชั้นป้องกันในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการเคลือบผิวเพื่อเพิ่มความทนทานและประสิทธิภาพของวัสดุต่างๆ
ขนาด / Availability / ราคา:
| ขนาด (g) | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 5.000 | 10-20 days | ฿17,640.00 |
+
-
|
Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(IV)
ใช้เป็นสารตั้งต้นในการผลิตฟิล์มบางของเซอร์โคเนียมออกไซด์ (ZrO₂) ผ่านกระบวนการ Chemical Vapor Deposition (CVD) และ Atomic Layer Deposition (ALD) ซึ่งฟิล์มเหล่านี้มีความสำคัญในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์สำหรับการสร้างชั้นฉนวนและชั้นป้องกันในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการเคลือบผิวเพื่อเพิ่มความทนทานและประสิทธิภาพของวัสดุต่างๆ
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
฿0.00
฿0.00
รวมทั้งสิ้น :