ใช้ในกระบวนการผลิตสารเคลือบผิวที่มีคุณสมบัติทนต่ออุณหภูมิสูงและทนต่อการกัดกร่อน โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และชิ้นส่วนของอุปกรณ์อวกาศ เนื่องจากสามารถสร้างฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงผ่านกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์วัสดุเซรามิกขั้นสูงที่ต้องการความแข็งแรงและเสถียรภาพทางเคมีในสภาวะแวดล้อมที่รุนแรง