Tetrakis(diethylamino)hafnium
99%,99.99%-Hf,
- รหัสสินค้า: 242316
CAS:
19824-55-6
| น้ำหนักโมเลกุล: | 467.01 g./mol | Molecular Formula: | C₁₆H₄₀HfN₄ |
|---|---|---|---|
| EC Number: | MDL Number: | MFCD00799095 | |
| Melting Point: | -68 °C | Boiling Point: | 130 °C0.01 mm Hg(lit.) |
| Density: | 1.249 g/mL at 25 °C(lit.) | Storage Condition: | 2-8°C, sealed, dry |
รายละเอียดสินค้า:
ใช้ในกระบวนการผลิตสารเคลือบผิวที่มีคุณสมบัติทนต่ออุณหภูมิสูงและทนต่อการกัดกร่อน โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และชิ้นส่วนของอุปกรณ์อวกาศ เนื่องจากสามารถสร้างฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงผ่านกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์วัสดุเซรามิกขั้นสูงที่ต้องการความแข็งแรงและเสถียรภาพทางเคมีในสภาวะแวดล้อมที่รุนแรง
ขนาด / Availability / ราคา:
| ปริมาณ | Availability | ราคา | จำนวน |
|---|---|---|---|
| 1.000 | 10-20 days | $472.22 |
+
-
|
| 5.000 | 10-20 days | $1,279.66 |
+
-
|
| 25.000 | 10-20 days | $3,518.80 |
+
-
|
Tetrakis(diethylamino)hafnium
ใช้ในกระบวนการผลิตสารเคลือบผิวที่มีคุณสมบัติทนต่ออุณหภูมิสูงและทนต่อการกัดกร่อน โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และชิ้นส่วนของอุปกรณ์อวกาศ เนื่องจากสามารถสร้างฟิล์มบางที่มีความบริสุทธิ์สูงผ่านกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์วัสดุเซรามิกขั้นสูงที่ต้องการความแข็งแรงและเสถียรภาพทางเคมีในสภาวะแวดล้อมที่รุนแรง
| Mechanism | - |
| Appearance | - |
| Longevity | - |
| Strength | - |
| Storage | - |
| Shelf Life | - |
| Allergen(s) | - |
| Dosage (Range) | - |
| Recommended Dosage | - |
| Dosage (Per Day) | - |
| Recommended Dosage (Per Day) | - |
| Mix Method | - |
| Heat Resistance | - |
| Stable in pH range | - |
| Solubility | - |
| Product Types | - |
| INCI | - |
Purchase History for
Loading purchase history...
ตะกร้า
ไม่มีสินค้า
Subtotal:
$0.00
$0.00
รวมทั้งสิ้น :