ส่วนประกอบพื้นฐานและตัวกลางที่จำเป็นสำหรับการสังเคราะห์โฟโต้เรซิสต์ที่ใช้ในกระบวนการโฟโต้ลิโธกราฟีสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ซึ่งช่วยให้เกิดการสร้างลวดลายที่แม่นยำและการพัฒนาวัสดุที่ไวต่อแสง