2-Methyladamantan-2-yl Acrylate ใช้หลักในการพัฒนาวัสดุโฟโต้เรซิสต์ขั้นสูง ซึ่งมีความสำคัญในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยมีบทบาทสำคัญในการสร้างลายเส้นความละเอียดสูงบนเวเฟอร์ซิลิคอน เพื่อการผลิตส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ที่เล็กลงและมีประสิทธิภาพมากขึ้น นอกจากนี้ โครงสร้างที่เป็นเอกลักษณ์ยังช่วยเพิ่มความเสถียรทางความร้อนและเคมีของโฟโต้เรซิสต์ เพื่อความทนทานในขั้นตอนการกัดกร่อนและพัฒนา นอกเหนือจากเซมิคอนดักเตอร์ ยังมีการนำไปใช้ในการสังเคราะห์โพลีเมอร์พิเศษ ซึ่งช่วยยกระดับสมบัติของสารเคลือบและกาวในงานอุตสาหกรรมที่ต้องการสูง รวมถึงการเคลือบผิว วัสดุคอมโพสิตที่มีความต้านทานการขีดข่วนและรังสียูวี และระบบเรซินสำหรับการพิมพ์ 3 มิติที่ต้องการความแม่นยำและความทนทาน