ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์ตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีนีโอเบียมเป็นพื้นฐานและวัสดุเซรามิก ใช้ในการผลิตฟิล์มออกไซด์นีโอเบียมสำหรับการเคลือบทางแสงและส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ เนื่องจากความสามารถในการย่อยสลายเป็นออกไซด์ความบริสุทธิ์สูงที่อุณหภูมิสูง นอกจากนี้ยังนำไปใช้ในกระบวนการ sol-gel สำหรับการสร้างวัสดุโครงสร้างนาโนที่มีลักษณะรูปร่างที่ควบคุมได้ โครงสร้างแบบเชลตของมันช่วยเพิ่มความละลายและความเสถียรในตัวทำละลายขั้ว ทำให้เหมาะสำหรับเทคนิคการสะสมฟิล์มบาง