ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์เซรามิกส์ที่ขึ้นอยู่กับซิลิคอนไนไตรด์ ทำให้เกิดการเคลือบผิวที่มีความทนทานต่ออุณหภูมิสูงและทนต่อการสึกหรอสำหรับชิ้นส่วนอุตสาหกรรม ใช้ในกระบวนการ deposition ไอระเหยเพื่อสร้างฟิล์มบางแบบป้องกันบนวัสดุอวกาศและวัสดุอิเล็กทรอนิกส์ ความตอบสนองของสารช่วยให้เกิดการก่อตัวที่ควบคุมได้ของโครงสร้างซิลิคอน-ไนโตรเจนในระบบเซรามิกขั้นสูงที่ได้จากโพลิเมอร์ นอกจากนี้ยังใช้ในการวิจัยเพื่อพัฒนาโพลิเมอร์ซิลาซานชนิดใหม่ที่มีความเสถียรทางความร้อนสำหรับใช้ในคอมโพสิตและการเคลือบ