ใช้ในกระบวนการสังเคราะห์วัสดุเซรามิกส์และฟิล์มบางที่มีความทนทานต่ออุณหภูมิสูง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์สำหรับทำชั้นเก็บประจุหรือชั้นฉนวนในทรานซิสเตอร์ นอกจากนี้ยังเป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในปฏิกิริยาเคมีบางชนิด เช่น การสร้างพันธะคาร์บอน-คาร์บอน และใช้ในกระบวนการโซล-เจลเพื่อผลิตนาโนพาร์ติเคิลของซิลิกาหรือซิลิเกตที่มีพื้นผิวสูง ซึ่งนำไปใช้ในตัวเร่งปฏิกิริยา หรือวัสดุเคลือบที่มีความแข็งแรงและทนต่อการกัดกร่อน