1,1-Dichlorosilacyclobutane ถูกนำมาใช้หลักๆ ในสาขาการสังเคราะห์อินทรีย์และอนินทรีย์ โดยเฉพาะในการผลิตโพลิเมอร์และวัสดุที่ขึ้นอยู่กับซิลิกอน โครงสร้างที่เป็นเอกลักษณ์ของมันช่วยให้ทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นสำหรับการสร้างอนุพันธ์ซิลาซัยโคลบิวเทน ซึ่งมีคุณค่าในการพัฒนาวัสดุขั้นสูงที่มีคุณสมบัติทางความร้อนและกลไกเฉพาะ นอกจากนี้ ยังมีการประยุกต์ใช้ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ โดยใช้ในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อสะสมฟิล์มบางของสารประกอบที่มีซิลิกอน ซึ่งฟิล์มเหล่านี้จำเป็นสำหรับการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ เช่น วงจรรวมและเซลล์แสงอาทิตย์ ความตอบสนองของสารนี้ยังทำให้เหมาะสำหรับใช้ในการปรับเปลี่ยนพื้นผิวและเทคโนโลยีการเคลือบ เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพและความทนทานของพื้นผิวต่างๆ