ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการเคลือบด้วยไอสารเคมี (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางที่มีโคบอลต์ ซึ่งมีความสำคัญในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์สำหรับกำแพงป้องกันการแพร่และจุดต่อสัมผัสไฟฟ้า ความผันผวนสูงและความเสถียรทางความร้อนทำให้เหมาะสำหรับการสะสมที่แม่นยำและควบคุมได้ที่อุณหภูมิต่ำค่อนข้าง นอกจากนี้ยังใช้ในงานวิจัยเพื่อสังเคราะห์นาโนวัสดุและตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีโคบอลต์เป็นฐาน เนื่องจากโครงสร้างการประสานที่ชัดเจน การมีลิแกนด์ฟลูออรีนช่วยเพิ่มความละลายในตัวทำละลายไม่ขั้ว ทำให้สามารถใช้ในเทคนิคการเคลือบแบบละลายได้