ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อผลิตฟิล์มบางของทองแดงและออกไซด์ทองแดง ซึ่งจำเป็นสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังใช้ในการสังเคราะห์โพลิเมอร์การประสานและโครงสร้างโลหะ-อินทรีย์ (MOFs) เนื่องจากความสามารถในการก่อตัวคอมเพล็กซ์ที่เสถียรกับลิแกนด์อินทรีย์ นอกจากนี้ยังทำหน้าที่เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในปฏิกิริยาอินทรีย์ต่างๆ รวมถึงกระบวนการพอลิเมอริเซชันและออกซิเดชัน โดยเพิ่มประสิทธิภาพและความเลือกสรรของปฏิกิริยา บทบาทของมันในการพัฒนาวัสดุขั้นสูงและการประยุกต์ใช้เทคโนโลยีナノมีนัยสำคัญ สนับสนุนนวัตกรรมในด้านอิเล็กทรอนิกส์ การเร่งปฏิกิริยา และวิทยาศาสตร์วัสดุ