ใช้อย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ในฐานะสารตั้งต้นสำหรับการสะสมฟิล์มบางที่มีซิลิคอนผ่านกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) มันมีบทบาทสำคัญในกระบวนการผลิตอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ โดยรับประกันชั้นซิลิคอนคุณภาพสูงด้วยการควบคุมความหนาและความสม่ำเสมออย่างแม่นยำ นอกจากนี้ ยังถูกใช้ในการผลิตวัสดุขั้นสูง เช่น สารเคลือบซิลิคอนคาร์ไบด์ ซึ่งเพิ่มความทนทานและประสิทธิภาพของส่วนประกอบในสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูงและกัดกร่อน การประยุกต์ใช้ของมันขยายไปถึงการวิจัยและพัฒนาในด้านนาโนเทคโนโลยี ซึ่งช่วยในการสร้างโครงสร้างนาโนและอุปกรณ์ที่เป็นนวัตกรรม