ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อผลิตฟิล์มบางของออกไซด์แมงกานีส ซึ่งจำเป็นสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ยังใช้ในการสังเคราะห์วัสดุขั้นสูง รวมถึงตัวเร่งปฏิกิริยาสำหรับปฏิกิริยาอินทรีย์และระบบกักเก็บพลังงาน บทบาทในการสร้างสารประกอบแมงกานีสความบริสุทธิ์สูงทำให้มีคุณค่าในงานวิจัยและการประยุกต์ใช้ในอุตสาหกรรมที่ต้องการคุณสมบัติวัสดุที่แม่นยำ