ใช้เป็นสารตั้งต้นในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในกระบวนการเคลือบด้วยไอสารเคมี (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางที่มีซิลิคอนเป็นส่วนประกอบ เช่น ฟิล์มซิลิคอนคาร์โบไนไตรด์ (SiCN) ซึ่งมีความนำไฟฟ้าต่ำและทนต่อความชื้น อุณหภูมิสูง และสารเคมี การตอบสนองสูงและความผันผวนช่วยให้การสะสมเกิดขึ้นได้อย่างมีประสิทธิภาพที่อุณหภูมิต่ำ เหมาะสำหรับการผลิตไมโครอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง นอกจากนี้ยังใช้ในการสังเคราะห์โพลิเมอร์ซิลอกเซนพิเศษและสารปรับสภาพพื้นผิว เนื่องจากกลุ่มฟังก์ชันอะมีนช่วยเพิ่มการยึดเกาะและความเข้ากันได้กับพื้นผิวต่างๆ