ใช้เป็นสารตั้งต้นที่มีปฏิกิริยาสูงในการสังเคราะห์วัสดุที่ประกอบด้วยลันทาแนม โดยเฉพาะในกระบวนการ deposition ไอระเหยสำหรับผลิตฟิล์มบาง คุณสมบัติที่ระเหยง่ายและความเสถียรทางความร้อนทำให้เหมาะสำหรับการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) และการ deposition ชั้นอะตอม (ALD) ซึ่งช่วยในการก่อตัวฟิล์มลันทาแนมออกไซด์หรือลันทาแนมซิลิเกตที่มีความบริสุทธิ์สูง ฟิล์มเหล่านี้มีความสำคัญในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ในฐานะไดอิเล็กทริกเกต เนื่องจากมีค่าคงที่ไดอิเล็กทริกสูงและความเสถียรทางความร้อนที่ดี นอกจากนี้ยังใช้ในการวิจัยสำหรับเตรียมตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีฐานลันทาแนมและในเคมีออร์กาโนเมทัลลิกในฐานะฐานที่แรงหรือสารตัวแทนทรานส์อะมิเนชัน