ใช้หลักๆ เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อผลิตฟิล์มบางที่มีสังกะสี โดยเฉพาะซิงค์ออกไซด์ (ZnO) ฟิล์มเหล่านี้จำเป็นสำหรับอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ เนื่องจากมีความโปร่งใสและคุณสมบัติกึ่งตัวนำ ใช้ทั่วไปในการผลิตชั้นเคลือบนำไฟฟ้าโปร่งใสสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์ จอแสดงผลแบบแบน และไดโอดแสงสว่าง (LEDs) นอกจากนี้ยังใช้ในการสังเคราะห์นาโนวัสดุและตัวเร่งปฏิกิริยาที่ต้องการการปล่อยไอออนสังกะสีแบบควบคุม ความระเหยและความเสถียรทางความร้อนทำให้เหมาะสำหรับการ deposition ที่อุณหภูมิปานกลาง ซึ่งช่วยให้สามารถนำไปใช้ในกระบวนการผลิตอุปกรณ์ที่อ่อนไหวต่ออุณหภูมิได้