ใช้หลักๆ เป็นเครื่องกำเนิดกรดจากแสง (PAG) ในกระบวนการลิโธกราฟี โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลต (UV) หรือ deep UV จะสลายตัวเพื่อผลิตกรดที่แรง ซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในวัสดุโฟโต้เรซิสต์ ทำให้สามารถสร้างลวดลายโครงสร้างขนาดเล็กบนเวเฟอร์ซิลิคอนได้อย่างแม่นยำ พบทั่วไปในเรซิสต์แบบขยายทางเคมีเนื่องจากความเสถียรทางความร้อนสูงและการผลิตกรดที่มีประสิทธิภาพ ยังใช้ในกระบวนการพอลิเมอไรเซชันแบบคาเทียนิกบางชนิดและระบบอีพ็อกซี่ที่ต้องการการเริ่มต้นด้วยแสง