ใช้เป็นสารสร้างกรดจากแสง (photoacid generator: PAG) ในสูตร photoresist สำหรับกระบวนการ lithography ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลตลึก (DUV) หรือแสงอัลตราไวโอเลตสุดขีด (EUV) จะปล่อยกรดซัลโฟนิกที่แรง ซึ่งทำหน้าที่เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาเคมีในชั้น resist ทำให้สามารถพัฒนาลวดลายได้อย่างแม่นยำในกระบวนการ microfabrication ความเสถียรทางความร้อนและประสิทธิภาพในการสร้างกรดสูงทำให้เหมาะสมสำหรับการสร้างลวดลายความละเอียดสูงในกระบวนการผลิตชิปขั้นสูง นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการ polymerization แบบ cationic บางประเภทและสารเคลือบพิเศษที่ต้องการการ curing ที่ควบคุมด้วยกรด