ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์ตัวเร่งปฏิกิริยาพื้นฐานโรเดียมสำหรับปฏิกิริยาในระดับอุตสาหกรรมและห้องปฏิบัติการ โดยเฉพาะในกระบวนการไฮโดรเจนเนชันและไฮโดรฟอร์มิลเลชัน ใช้ในการเตรียมฟิล์มบางและสารเคลือบสำหรับส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ เนื่องจากความเสถียรทางความร้อนและคุณสมบัติการนำไฟฟ้าหลังการสลายตัว นำไปใช้ในการวิจัยเพื่อพัฒนาวัสดุใหม่ในตัวเร่งปฏิกิริยาแบบนอกเฟสและเทคโนโลยีเซ็นเซอร์ นอกจากนี้ยังใช้ในอ่างชุบไฟฟ้าเพื่อสะสมชั้นโลหะโรเดียม ให้ความต้านทานการกัดกร่อนและพื้นผิวสะท้อนแสงสำหรับพื้นผิวทางแสงและตกแต่ง