ใช้ในกระบวนการดัดแปลงพื้นผิวของวัสดุ เช่น แก้ว ซิลิกา หรือโลหะ เพื่อเพิ่มคุณสมบัติทนน้ำและลดการยึดติดของสิ่งสกปรก โดยทำให้พื้นผิวมีลักษณะเป็นไฮโดรโฟบิก (กันน้ำ) เหมาะสำหรับการใช้งานในเซ็นเซอร์ อุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิกส์ และชิปวิเคราะห์ ช่วยป้องกันการเกิดคราบและยืดอายุการใช้งานของอุปกรณ์ นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการสร้างฟิล์มบางแบบจัดเรียงตัวเอง (self-assembled monolayers) บนพื้นผิวซิลิกอนในอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์