ใช้เป็นสารเคลือบผิวในกระบวนการผลิตชิปไมโครอิเล็กทรอนิกส์ โดยทำหน้าที่เป็นชั้นป้องกันการดูดซับน้ำและช่วยเพิ่มความเข้ากันได้ของผิวซิลิกอนกับชั้นฟิล์มบางอื่น ๆ นิยมใช้ในขั้นตอน photolithography เพื่อควบคุมการจัดเรียงของเรซินไวแสง ช่วยให้การถ่ายลวดลายมีความแม่นยำสูง ลดข้อผิดพลาดจากฟองอากาศหรือการยึดติดไม่สม่ำเสมอ นอกจากนี้ยังใช้ในอุปกรณ์เซนเซอร์พื้นผิวและวัสดุชีวภาพที่ต้องการพื้นผิวที่มีคุณสมบัติพิเศษ เช่น ต้านการเกาะตัวของโปรตีนหรือเซลล์