ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์ซิลิกาเจลและวัสดุเซรามิกที่มีความพรุนสูง โดยเฉพาะในกระบวนการโซล-เจล ซึ่งเหมาะสำหรับการผลิตฟิล์มบาง ฉนวนความร้อน และวัสดุที่ต้องการพื้นผิวเฉพาะ เนื่องจากมีหมู่เมธอกซีเอทิลที่ทำให้มีความเข้ากันได้ดีกับตัวทำละลายอินทรีย์ และช่วยควบคุมอัตราการไฮโดรไลซิสได้อย่างมีประสิทธิภาพ จึงนิยมใช้ในงานเคลือบผิวและวัสดุทางอิเล็กทรอนิกส์ที่ต้องการความบริสุทธิ์สูง