ใช้เป็นสารตั้งต้นที่ขึ้นอยู่กับซิลิคอนในอุตสาหกรรมการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในกระบวนการการสะสมไอทางเคมี (CVD) ซึ่งช่วยในการก่อตัวของฟิล์มบางซิลิกอนไนไตรด์และซิลิกอนคาร์โบไนไตรด์ ที่ทำหน้าที่เป็นชั้นไดอิเล็กทริกหรือชั้นกั้นการแพร่กระจายในอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง ความเหินลอยสูงและกิจกรรมทางเคมีที่อุณหภูมิสูงทำให้เหมาะสำหรับการสะสมที่อุณหภูมิต่ำ ซึ่งช่วยปรับปรุงประสิทธิภาพกระบวนการและอำนวยความสะดวกในการรวมเข้ากับโครงสร้างอุปกรณ์ที่อ่อนไหว นอกจากนี้ ยังใช้ในการปรับเปลี่ยนพื้นผิวของนาโนวัสดุ เนื่องจากกลุ่มไดเมทิลอะมิโนที่ทำปฏิกิริยาได้ ซึ่งช่วยในการทำให้มีหน้าที่เฉพาะของนาโนอนุภาคและวัสดุพรุนสำหรับการใช้งานด้านตัวเร่งปฏิกิริยาหรือเซ็นเซอร์