ใช้เป็นสารเคมีพิเศษในกระบวนการสังเคราะห์อินทรีย์และการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) สำหรับฟิล์มบางที่เป็นฐานซิลิกอน ความผันผวนสูงและปริมาณซิลิกอนทำให้มีประสิทธิภาพในการสะสมชั้นซิลิคอนคาร์ไบด์หรือซิลิคอนไนไตรด์ที่อุดมด้วยซิลิคอนที่อุณหภูมิต่ำค่อนข้าง นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารเมทิลเลติ้งในห้องปฏิบัติการวิจัย โดยถ่ายโอนหมู่เมทิลไปยังสารตั้งต้นต่างๆ เนื่องจากความตอบสนองต่อออกซิเจนและความชื้น จึงจัดการภายใต้สภาวะเฉื่อยหลักๆ ในระบบปิดสำหรับการผลิตวัสดุที่แม่นยำ