ใช้ในอุตสาหกรรมเคมีเป็นตัวทำปฏิกิริยาในการสังเคราะห์สารประกอบของซิลิคอน โดยเฉพาะในการผลิตซิลิคอนความบริสุทธิ์สูงสำหรับอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ เช่น ชิปเซมิคอนดักเตอร์และแผงโซลาร์เซลล์ นอกจากนี้ยังใช้เป็นสารตั้งต้นในการเคลือบผิวด้วยฟิล์มบางของซิลิกาผ่านกระบวนการ CVD (Chemical Vapor Deposition) ซึ่งช่วยเพิ่มความทนทานต่อความร้อนและการกัดกร่อนในชิ้นส่วนอุตสาหกรรมต่างๆ