ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการ deposition ไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางของวัสดุพื้นฐานซิลิกอน โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ช่วยในการผลิตชั้นเคลือบซิลิกอนไนไตรด์และซิลิกอนคาร์ไบด์ ซึ่งจำเป็นสำหรับการเพิ่มความทนทานและประสิทธิภาพของส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ ยังทำหน้าที่เป็นสารเคมีหลักในการสังเคราะห์สารประกอบออร์กาโนซิลิคอน ซึ่งถูกนำไปใช้อย่างแพร่หลายในการผลิตกาว ซีลแลนต์ และชั้นเคลือบ บทบาทของมันในกระบวนการปรับเปลี่ยนพื้นผิวก็มีความสำคัญเช่นกัน โดยช่วยปรับปรุงการยึดเกาะและความเข้ากันได้ของวัสดุในแอปพลิเคชันอุตสาหกรรมต่างๆ