ใช้เป็นตัวตั้งต้นในการสังเคราะห์ฟิล์มบางที่มีสตรอนเทียมผ่านกระบวนการ chemical vapor deposition (CVD) หรือ atomic layer deposition (ALD) ฟิล์มเหล่านี้ใช้ในวัสดุอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง รวมถึงไดอิเล็กทริกและอุปกรณ์เฟอร์โรอิเล็กทริก คุณสมบัติการระเหยสูงและความเสถียรทางความร้อนทำให้เหมาะสำหรับกระบวนการ deposition ที่แม่นยำสูงในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ นอกจากนี้ ยังมีการสำรวจในการเตรียม metal-organic frameworks ที่ fluorinated พิเศษสำหรับการใช้งานทาง catalysis โดยเฉพาะในงานวิจัยวัสดุฟังก์ชันพิเศษ เช่น เซรามิกส์ที่มีคุณสมบัติไฟฟ้าพิเศษอย่างไดอิเล็กทริกหรือพีโซอิเล็กทริก ซึ่งเหมาะสำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง เช่น ตัวเก็บประจุประสิทธิภาพสูงหรือเซ็นเซอร์ความดัน