ใช้เป็นตัวสร้างกรดด้วยแสง (Photoacid Generator: PAG) ในกระบวนการลิโธกราฟีด้วยแสงขั้นสูง โดยเฉพาะในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสงอัลตราไวโอเลตลึก (DUV) หรืออัลตราไวโอเลตสุดขีด (EUV) จะปล่อยกรดที่แรงซึ่งเร่งปฏิกิริยาเคมีในวัสดุโฟโต้เรซิสต์ ทำให้สามารถพัฒนาลายเส้นที่แม่นยำบนเวเฟอร์ซิลิคอนได้ คาร์โบนิกัลชูมมีอัมให้ความเสถียรทางความร้อนสูงและการสร้างกรดที่มีประสิทธิภาพ ในขณะที่กลุ่มเมทิลไทโอฟีนิลและฟีนิลช่วยปรับความละลายและปฏิกิริยา ใช้กันทั่วไปในเรซิสต์ที่ขยายด้วยเคมีสำหรับการสร้างลายเส้นความละเอียดสูงในการผลิตไมโครอิเล็กทรอนิกส์