ใช้เป็นตัวทำละลายประสิทธิภาพสูงในกระบวนการลิโธกราฟีขั้นสูงสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ มีประสิทธิภาพในสูตรโฟโต้เรซิสต์เนื่องจากความสามารถในการทำให้ส่วนประกอบที่ละเอียดอ่อนคงตัวและให้การเคลือบที่สม่ำเสมอบนเวเฟอร์ซิลิคอน ยังใช้ในสารทำความสะอาดพิเศษสำหรับไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ซึ่งต้องการสารตกค้างต่ำและความบริสุทธิ์สูง แสดงความเข้ากันได้กับระบบลิโธกราฟีรังสีอัลตราไวโอเลตสุดขีด (EUV) สนับสนุนการผลิตโหนดเทคโนโลยีขนาดย่อยกว่า 7 นาโนเมตร