(N-Methyl-N-phenylamino)triphenylphosphonium Iodide

95%

Reagent รหัส: #217644
fingerprint
หมายเลข CAS 34257-63-1

science รีเอเจนต์อื่นที่มี CAS เดียวกัน 34257-63-1

blur_circular ข้อมูลจำเพาะทางเคมี

scatter_plot ข้อมูลโมเลกุล
น้ำหนัก 495.34 g/mol
สูตร C₂₅H₂₃INP
badge หมายเลขทะเบียน
MDL Number MFCD00040544
inventory_2 การจัดเก็บและการจัดการ
พื้นที่จัดเก็บ Room temperature, dryness, inert gas storage

description รายละเอียดสินค้า

ใช้เป็นสารสร้างกรดจากแสง (photoacid generator) ในกระบวนการโฟโตโพลิเมอไรเซชัน โดยเฉพาะในลิโธกราฟีขั้นสูงสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสง จะปล่อยกรดที่เริ่มต้นการโพลิเมอไรเซชันหรือการเชื่อมขวางในวัสดุรีซิสต์ ทำให้สามารถสร้างลายเส้นความละเอียดสูง นอกจากนี้ ยังใช้ในงานสังเคราะห์อินทรีย์เป็นสารตั้งต้นฟอสโฟเนียมสำหรับปฏิกิริยาแบบ Wittig ซึ่งช่วยเปลี่ยนคาร์บอนิลเป็นอัลเคน สร้างพันธะคาร์บอน-คาร์บอนได้อย่างมีประสิทธิภาพ นิยมใช้ในห้องปฏิบัติการวิจัยเพื่อพัฒนาสารต่างๆ เช่น ยา วัสดุพิเศษ หรือสารที่มีโครงสร้างเชิงซ้อน ความคงตัวทางความร้อนและความสามารถในการละลายในตัวทำละลายอินทรีย์ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานในฟิล์มบางและการผลิตอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์

shopping_cart ขนาดและราคาที่มีจำหน่าย

ปริมาณ Availability ราคาต่อหน่วย จำนวน
inventory 50mg
10-20 days ฿310.00
inventory 250mg
10-20 days ฿760.00
inventory 1g
10-20 days ฿2,550.00
(N-Methyl-N-phenylamino)triphenylphosphonium Iodide
No image available

ใช้เป็นสารสร้างกรดจากแสง (photoacid generator) ในกระบวนการโฟโตโพลิเมอไรเซชัน โดยเฉพาะในลิโธกราฟีขั้นสูงสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสง จะปล่อยกรดที่เริ่มต้นการโพลิเมอไรเซชันหรือการเชื่อมขวางในวัสดุรีซิสต์ ทำให้สามารถสร้างลายเส้นความละเอียดสูง นอกจากนี้ ยังใช้ในงานสังเคราะห์อินทรีย์เป็นสารตั้งต้นฟอสโฟเนียมสำหรับปฏิกิริยาแบบ Wittig ซึ่งช่วยเปลี่ยนคาร์บอนิลเป็นอัลเคน สร้างพันธะคาร์บอน-คาร์บอนได้อย่างมีประสิทธิภาพ นิยมใช้ในห้องปฏิบัติการวิจัยเพื่อพัฒนาสารต่างๆ เช่น ยา วัสดุพิเศษ หรือสารที่มีโครงส

ใช้เป็นสารสร้างกรดจากแสง (photoacid generator) ในกระบวนการโฟโตโพลิเมอไรเซชัน โดยเฉพาะในลิโธกราฟีขั้นสูงสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เมื่อได้รับแสง จะปล่อยกรดที่เริ่มต้นการโพลิเมอไรเซชันหรือการเชื่อมขวางในวัสดุรีซิสต์ ทำให้สามารถสร้างลายเส้นความละเอียดสูง นอกจากนี้ ยังใช้ในงานสังเคราะห์อินทรีย์เป็นสารตั้งต้นฟอสโฟเนียมสำหรับปฏิกิริยาแบบ Wittig ซึ่งช่วยเปลี่ยนคาร์บอนิลเป็นอัลเคน สร้างพันธะคาร์บอน-คาร์บอนได้อย่างมีประสิทธิภาพ นิยมใช้ในห้องปฏิบัติการวิจัยเพื่อพัฒนาสารต่างๆ เช่น ยา วัสดุพิเศษ หรือสารที่มีโครงสร้างเชิงซ้อน ความคงตัวทางความร้อนและความสามารถในการละลายในตัวทำละลายอินทรีย์ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานในฟิล์มบางและการผลิตอุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์

Mechanism -
Appearance -
Longevity -
Strength -
Storage -
Shelf Life -
Allergen(s) -
Dosage (Range) -
Dosage (Per Day) -
Mix Method -
Heat Resistance -
Stable in pH range -
Solubility -
Product Types -
INCI -

Purchase History for

Loading purchase history...