ใช้ในงานวิจัยด้านเคมีอนินทรีย์และเคมีของแข็ง โดยเฉพาะในการสังเคราะห์สารประกอบของไนโอเบียมในระดับแล็บ นิยมใช้เป็นตัวเริ่มต้น (precursor) สำหรับการเตรียมวัสดุเซรามิกส์ที่มีคุณสมบัติพิเศษ เช่น วัสดุที่ใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์หรือตัวเร่งปฏิกิริยา สามารถนำไปใช้ในกระบวนการเคลือบผิวแบบ CVD (Chemical Vapor Deposition) เพื่อสร้างฟิล์มบางของไนโอเบียมไอโอไดด์หรือออกไซด์ที่มีความบริสุทธิ์สูง นอกจากนี้ยังมีศักยภาพในการใช้ในงานด้านโฟโตนิกส์และวัสดุที่ตอบสนองต่อแสง