NF 279 ใช้หลัก ๆ เป็นตัวทำละลายประสิทธิภาพสูงในกระบวนการผลิตอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง โดยเฉพาะอย่างยิ่งมีประสิทธิภาพในโฟโตลิโธกราฟีสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากสามารถละลายโฟโต้เรซิสต์ได้อย่างสม่ำเสมอ ในขณะที่รักษาความเสถียรทางความร้อนและเคมี คุณสมบัติตกค้างต่ำทำให้เหมาะสำหรับทำความสะอาดส่วนประกอบไมโครอิเล็กทรอนิกส์ที่ละเอียดอ่อนโดยไม่ทำลายวงจรที่บอบบาง นอกจากนี้ NF 279 ยังใช้ในการผลิตแผงจอแบนและออปติกส์ความแม่นยำ ซึ่งการเคลือบที่สม่ำเสมอและการเกิดอนุภาคน้อยเป็นสิ่งสำคัญ ความเข้ากันได้กับวัสดุโพลิเมอร์ต่าง ๆ ยังช่วยให้ใช้ในเคลือบพิเศษและการใช้งานฟิล์มบางที่ต้องการความบริสุทธิ์สูงและความน่าเชื่อถือ