ใช้เป็นตัวทำละลายในสูตรทำความสะอาดอุตสาหกรรมเนื่องจากมีคุณสมบัติการละลายสูงและความระเหยต่ำ. ใช้บ่อยในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์สำหรับการลอกฟิล์ม photoresist และทำความสะอาดเวเฟอร์ เนื่องจากสามารถขจัดสารตกค้างอินทรีย์ได้อย่างมีประสิทธิภาพโดยไม่ทำลายวัสดุที่ละเอียดอ่อน. ยังใช้ในสูตรสีย้อมและเป็นสาร coupling agent ในสารเคลือบเพื่อปรับปรุงการยึดเกาะและความสม่ำเสมอของฟิล์ม. คุณสมบัติ hygroscopic ทำให้เหมาะสำหรับใช้ในกระบวนการกำจัดความชื้นจากก๊าซบางชนิด. นอกจากนี้ ยังพบในหมึกพิมพ์พิเศษและสูตร inkjet บางชนิดที่การควบคุมการระเหยและความสามารถในการละลายมีความสำคัญ.