ใช้เป็นสารตั้งต้นในการสังเคราะห์อนุภาคนาโนแพลตินัมและฟิล์มบางสำหรับการใช้งานทางเร่งปฏิกิริยา นิยมใช้ในกระบวนการ deposition ไอสารเคมี (CVD) เพื่อผลิตชั้นเคลือบที่มีแพลตินัมบนพื้นผิว ซึ่งมีประโยชน์ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์และเซ็นเซอร์ ทำหน้าที่เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาหรือตัวรองรับตัวเร่งในปฏิกิริยาอินทรีย์ รวมถึงปฏิกิริยาการไฮโดรเจนเนชันและปฏิกิริยาออกซิเดชัน ความคงทนทางความร้อนทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานในอุณหภูมิสูงในวิทยาศาสตร์วัสดุ นอกจากนี้ยังใช้ในการวิจัยเพื่อพัฒนาวัสดุฐานแพลตินัมใหม่ที่มีคุณสมบัติเฉพาะเจาะจง