ใช้ในกระบวนการผลิตวัสดุเซรามิกส์และวัสดุนาโน เนื่องจากสามารถทำปฏิกิริยาได้ง่ายในการสร้างฟิล์มบางหรือโครงสร้างที่มีความบริสุทธิ์สูง เหมาะสำหรับการเคลือบผิว การผลิตตัวเร่งปฏิกิริยา และการสังเคราะห์สารประกอบที่ต้องการคุณสมบัติทางความร้อนและความแข็งแรงสูง นอกจากนี้ยังใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์เพื่อสร้างชั้นไดอิเล็กทริกในชิ้นส่วนอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์