ใช้ในกระบวนการผลิตวัสดุเซรามิกส์และวัสดุนาโน เนื่องจากสามารถทำปฏิกิริยาได้ง่ายในการสร้างฟิล์มบางหรืออนุภาคนาโนของซิลิคอนคาร์ไบด์หรือเซรามิกส์อื่น ๆ ที่มีความทนทานต่ออุณหภูมิสูง นิยมใช้ในงานเคลือบผิวเพื่อเพิ่มความแข็งแรงและความต้านทานต่อการกัดกร่อน นอกจากนี้ยังเป็นสารตั้งต้นในกระบวนการโซล-เจล สำหรับผลิตวัสดุทางออปติกส์และอิเล็กทรอนิกส์ที่ต้องการความบริสุทธิ์สูง