ใช้เป็นสารตั้งต้นในกระบวนการสะสมไอระเหยทางเคมี (CVD) เพื่อสร้างฟิล์มบางที่มีส่วนประกอบของทองแดง โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์สำหรับการสร้างชั้นนำไฟฟ้าในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ นอกจากนี้ ยังนำมาใช้ในการสังเคราะห์วัสดุขั้นสูง เช่น โครงสร้างโลหะ-ออร์กานิก (MOFs) เนื่องจากความสามารถในการก่อตัวเป็นคอมเพล็กซ์ที่เสถียร นอกจากนั้น ยังทำหน้าที่เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาในปฏิกิริยาออร์กานิก รวมถึงกระบวนการออกซิเดชันและพอลิเมอไรเซชัน ลิกานด์ hexafluoroacetylacetonate ช่วยเพิ่มความสามารถในการระเหย ทำให้เหมาะสมสำหรับการใช้งานที่ต้องการการควบคุมการสะสมโลหะอย่างแม่นยำ