ใช้หลักๆ เป็นตัวทำละลายประสิทธิภาพสูงในกระบวนการผลิตอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง โดยเฉพาะในโฟโตลิโธกราฟีและการทำความสะอาดเซมิคอนดักเตอร์ คุณสมบัติการละลายที่เป็นเอกลักษณ์ช่วยให้สามารถกำจัดคราบเหลือจากโฟโตเรซิสต์ได้อย่างมีประสิทธิภาพโดยไม่ทำลายโครงสร้างจุลภาคที่ละเอียดอ่อน นอกจากนี้ยังใช้ในสูตรเคลือบผิวพิเศษที่ต้องการแรงตึงผิวต่ำและความบริสุทธิ์สูง แสดงความเสถียรทางความร้อนที่ดีเยี่ยมและความเข้ากันได้กับโพลิเมอร์หลากหลาย ทำให้เหมาะสำหรับการทำความสะอาดแบบแม่นยำในอุตสาหกรรมอวกาศและอุปกรณ์การแพทย์ ความผันผวนต่ำช่วยในการจัดการที่ปลอดภัยกว่าและลดผลกระทบต่อสิ่งแวดล้อมเมื่อเทียบกับตัวทำละลายแบบดั้งเดิมในระบบปิด